Лазерний комплекс для мікрообробки
прозорих матеріалів з використанням
лазерно-індукованої плазми

Лазерний комплекс для мікрообробки прозорих матеріалів з використанням лазерно-індукованої плазми
Приклади мікромаркування на кварці (1) та склі (2) з використанням керованої рідкокристалічної маски.

Дозволяє виконувати прецизійну мікрообробку, зокрема, мікромаркування прозорих матеріалів з використанням дешевого та надійного неодимового лазеру довжиною хвилі 1,06 або 0,53 мкм, що відповідає області прозорості вказаних матеріалів. При цьому енергія лазерного випромінювання передається у матеріал через проміжну плазмову фазу.
Лазерний промінь проходить через прозорий зразок, за яким знаходиться непрозора еластична мішень. У вузькому проміжку між зразком і мішенню утворюється плазма, яка і спричиняє первинний етап мікротравлення прозорих мішеней.

Основні технічні характеристики:

Розмір зони обробки до 2 х 2 мм
Довжина хвилі лазерного випромінювання 1,06 або 0,53 мкм
Час маркування 15 см
Матеріали Скло, плавлений кварц, сапфір та інші прозорі матеріали
Глибина маркування 5 – 200 мкм
Роздільна здатність 10 мкм
Споживання електроенергії 200 Вт

Застосування:

  • мікроелектронне та оптичне виробництво;
  • лазерне виробництво сувенірів;
  • зовнішня реклама.

Розробник:

Відділ фотонних процесів Інституту фізики НАН України (Кадан В.М.)

Контактна інформація:

тел. +380 44 525-98-41
ел. пошта: fesenko@iop.kiev.ua