Зліва – мікромаркування на карбіді кремнію, справа – мікрошестерня з нікелевої фольги (d=50 мкм).

Комплекс призначений для мікрогравіювання і розмірної обробки металів, кераміки, надтвердих матеріалів. Спосіб обробки оснований на проекції полімерної маски і випаровуванні матеріалу лазерним променем.

Основні технічні характеристики:

Розробник:

Відділ фотонних процесів Інституту фізики НАН України (Кадан В.М.)

Контактна інформація:

тел. +380 44 525-98-41
ел. пошта: fesenko@iop.kiev.ua