Встановлено, що електронне опромінення приводить до росту існуючих кристалів в аморфно-кристалічних сплавах Fe‑Si-B навіть при кімнатній температурі.
Виявлено, що величина і знак радіаційно-стимульованих змін висоти першого максимуму структурного фактору та температури кристалізації аморфних сплавів Fe-Si-B залежать від концентрації кремнію і бору в їхньому складі.
Встановлено, що легування нікелем і молібденом аморфних сплавів на основі системи Fe‑Si‑B приводить до зменшення чутливості до опромінення висоти першого максимуму структурного фактору, температури Кюрі і температури кристалізації, а також до збільшення чутливості магнітної проникності.
Встановлено, що радіаційна чутливість магнітних характеристик нанокристалічних сплавів Fe-Si-B-Cu-Nb значно нижча, ніж аморфних.
Був залучений до досліджень з впливу іонізуючого опромінення на структуру та властивості монокристалічного кремнію, синтетичного гідроксилапатиту, вуглецеві наноструктури, а також дослідження з радіаційного зшивання гідрогелів.